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產(chǎn)品中心

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硅靶材（Si）

  • 產(chǎn)品資料
  • 技術(shù)參數(shù)

硅旋轉(zhuǎn)靶采用等離子噴涂或者燒結(jié)綁定工藝，尺寸根據(jù)客戶要求定制。

硅平面靶采用拉晶生長工藝，尺寸可根據(jù)客戶要求加工。

純度：99.9-99.999%
應(yīng)用領(lǐng)域：薄膜太陽能工業(yè)，低輻射玻璃工業(yè)，平板顯示工業(yè)，光學鍍膜工業(yè)，半導體工業(yè)，工具及裝飾鍍膜工業(yè)。